HSMG®

HSMG® to wielkopowierzchniowy polikrystaliczny grafen, produkowany metodą metalurgiczną opartą na wzroście z fazy ciekłej. Grafen HSMG® krystalizuje się na powierzchni ciekłego metalu, który pozwala każdej cząstce grafenu na obracanie się i zmianę ułożenia dopóki nie dopasuje się idealnie do powstającej warstwy grafenu. Tym samym HSMG® jest niemal bez defektów.

NOWY GRAFEN

NOWA METODA PRODUKCJI

HSMG® to produkt powstały przy użyciu unikalnej metody wytwarzania grafenu na matrycy z ciekłego metalu. Metoda została opracowana przez zespół naukowców z Instytutu Inżynierii Materiałowej (Politechnika Łódzka) i przekształcona w wysoce wydajny proces produkcyjny w wyniku współpracy z AGP.

HSMG TO NOWY RODZAJ GRAFENU

W porównaniu do grafenu CVD, HSMG® jest znacznie silniejszy i trwalszy. Może być wytwarzany w dużych ilościach w bardzo krótkim czasie, co wreszcie pozwala na wykorzystanie grafenu w skali przemysłowej – jest dostępny w wielu wymiarach od 10 x 10 mm do 200 x 90 mm. Podobnie jak teoretyczny grafen, HSMG® wykazuje właściwości półprzewodnikowe.

WŁAŚCIWOŚCI

HSMG® ze względu na swoje unikalne właściwości, nadaje się do zastosowania w wielu dziedzinach - energetyce, elektronice, kompozytach, membranach filtracyjnych, przemyśle samochodowym, lotnictwie, przemyśle kosmicznym etc.

  • Monokrystaliczne płatki do 1 mm
  • W testach na rozciąganie wydłużenie o 100 %
  • Monowarstwowe i poliwarstwowe płaty dowolnych rozmiarów
  • Niemal idealne pokrycie i ciągłość (min 95 %)
  • Możliwość łatwego transferu na różne podłoża
  • Stabilność bez substratu
  • Ujemny temperaturowy współczynnik przewodności elektrycznej
Produkcja HSMG® jest oparta na tworzeniu grafenu na ciekłym metalu. Ciecz jest możliwie najbardziej płaską powierzchnią, dzięki czemu użycie jej jako podłoża umożliwia każdej cząstce grafenu obracać się tak długo, dopóki nie dopasuje się idealnie do powstającego grafenowego płatu. W ten sposób powstaje produkt o strukturze pozbawionej niemalże niedoskonałości.
Dodatkową zaletą tej metody jest efekt oczyszczania strefy (wypychanie zanieczyszczeń przez krystalizujący front), co pozwala na wyeliminowanie zanieczyszczeń już na poziomie produkcji.
Metoda ta została opracowana przez zespół naukowców z Inżynierii Materiałowej (Politechnika Łódzka) i rozwinięta w wysoce wydajny proces przy współpracy z AGP.

GALERIA

Produkt

Laboratorium

Produkcja