Opis
| METODA WYTWARZANIA | Metalurgiczna – wzrost na matrycy z ciekłego metalu |
| STANDARDOWE PODŁOŻA | PMMA, Si/SiO2, kwarc |
| DOSTĘPNOŚĆ TRANSFERU | Transfer na niestandardowe podłoża dostępny na życzenie. |
| KONTROLA JAKOŚCI | Spektroskopia Ramanowska, Mikroskopia optyczna, Mikroskopia elektronowa SEM |
| POSTAĆ | Warstwa grafenu |
| WIELKOŚĆ POJEDYNCZEGO ZIARNA | do 1mm |
| POKRYCIE POWIERZCHNI* | >95% |
| ILOŚĆ WARSTW | Monowarstwa (grafen wielowarstwowy dostępny na życzenie) |
| TRANSPARENTNOŚĆ* | >97% |
| GRUBOŚĆ WARSTWY (TEORETYCZNA) | 0,345 nm |
| UŚREDNIONA OPORNOŚĆ POWIERZCHNIOWA* | <250 Ω/cm2 (pomiary metodą van der Pauw) |
*badania z niezależnych pomiarów wykonanych przez Wrocławskie Centrum Badań EIT+
MIKROSKOPIA TRANSMISYJNA
MIKROSKOPIA ELEKTRONOWA
(pojedyncze ziarno grafenu w procesie nukleacji)
SPEKTROSKOPIA RAMANOWSKA
Parametry podłoża
Cienka warstwa polimetakrylanu metylu (PMMA) o grubości ok. 6um.
Certyfikat
Wytwarzanie grafenu HSMG® zostało objęte certyfikatem Nano SoP potwierdzającym parametry produktu (niezależne badania wykonane przez Wrocławskie Centrum Badań EIT+), zaplecze laboratoryjne i produkcyjne AGP oraz dział R&D pozwalający na kontrolę jakości i ciągłe doskonalenie wytwarzanego produktu.
Patenty
AGP posiada patenty na grafen wytwarzany metodą wzrostu na ciekłym metalu w Polsce (PL 224409 B1 oraz PL 224447 B1), Stanach Zjednoczonych (US 9,284,640 B2) oraz Unii Europejskiej (EP 2865646 A1).
